璞璘科技（杭州）有限公司 8 月 1 日成功向国内一家特色工艺客户交付其自主研发的中国首台半导体级步进式纳米压印光刻 _(NIL) 系统 PL-SR。

璞璘科技在 PL-SR 系列设备上成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈，实现了纳米级的压印膜厚，达到了平均残余层＜10nm、残余层变化＜2nm、压印结构深宽比＞7:1 的技术指标，可对应线宽＜10nm 的 NIL 工艺。

璞璘科技表示其 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备目前已经初步完成存储芯片、硅基 (oS) 微显示器、硅光 (SiPh) 及先进封装 (AVP) 等芯片研发验证；其最小可实现 20mm×20mm 压印模板均匀拼接，最终可实现 12 英寸晶圆级超大模板。