北方华创(Naura)官方宣布，ICP等离子刻蚀机第1000腔交付。 

北方华创表示，这不仅是公司发展征程中的重要里程碑，更是国产刻蚀机在历经了20年自主创新后得到客户广泛认可的重要标志，未来会持续在等离子刻蚀ICP技术领域寻求更多突破。

北方华创科技集团股份有限公司成立于2001年，由北京七星华创电子股份有限公司、北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司战略重组而成，是目前国内集成电路高端工艺装备的先进企业。

北方华创成立后就开始组建团队钻研刻蚀技术，2004年第一台设备成功起辉，2005年第一台8英寸ICP刻蚀机在客户端上线，并于2007年获得国家科学技术进步二等奖。

目前，北方华创的刻蚀设备已经覆盖集成电路、LED、先进封装、功率半导体、MEMS微机电系统、化合物半导体、硅基微显、分析仪器、功率器件、光通信器件等多个领域，硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂。

其中，12英寸ICP刻蚀机在实现客户端28nm国产化替代，并在14/7nm SADP/SAQP、先进存储器、3D TSV等工艺应用中发挥着重要作用。