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华为“麒麟”芯片:首次下单中芯国际
2020/2/25 作者:搜狐 文章来源:搜狐 

华为日前举行线上发布会,宣布将发布新一代麒麟820 5G芯片。采用台积电6nm工艺,是7nm升级板,定位中端。

而另一重磅消息就是,业内消息称华为将首次把部分中低端手机“麒麟”芯片转到中芯国际代工。这是华为首次,将这么重要的芯片转交国内晶圆厂。

但该消息尚未得到双方华为和中芯国际确认。

中芯国际16/14nm量产,N+1代制程也有类台积电7nm效能,大概率华为是要尝试的。让我们静待中国半导体好消息。

美国政府持续以 “国家安全” 为由,试图限制供应商出货给华为。其中芯片制裁最甚,才有了FPGA赛灵思被迫裁员、存储美光放弃华为订单等消息,正所谓“杀敌800,自伤1000”。这句话,正好可以用来形容美国对华为采取的措施。

最后严防死守的是台积电,华为主要是担心美国扩大禁令后,台积电也不得不断供华为,必然导致华为无芯可用。美国正在制定政策:将美国技术含量 25%,修改为只要 10% 就不能为华为代工。美国计划在 2 月 28 日召开高层级会议,预计将齐聚美国商务部、国防部、国务院等重要部会的首长,拟定对中国和华为的方针,而是否加大对华为的禁令限制,成为科技业界关注的焦点。

业内消息称,华为将采用如下方法应对:

1、华为正在转移大部分非7nm制程到国内台积电南京工厂。积电南京工厂一度选厂为国家首家16nm/12nm生产线,可以缓解华为部分芯片压力。

2、华为正积极和中芯国际沟通转单,扩大流片种类比例。近日,更有业内消息称华为手机“麒麟”芯片将首次尝试在中芯国际流片,选择中芯国际最新研发的 N+1 制程技术。

中芯国际则表示,12nm已成功量产,N+1 和 N+2 代制程将会相当于台积电7nm- 技术,最重要的是都不需要用到 EUV 光刻机。

EUV光刻机被ASML荷兰政府卡脖子,也是一种无奈的选择吧。

中芯国际的下一代N+1工艺和14nm相比,性能提升了20%,功耗降低了57%,逻辑面积缩小了63%,SoC面积减少了55%。所以在功率和稳定性方面,N+1和7nm工艺非常相似,唯一区别在于性能方面,N+1工艺的提升较小,市场基准的性能提升应该是35%。所以,中芯国际的N+1工艺是面向低功耗应用领域的。

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