上海微电子装备(集团)股份有限公司日前披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机。

虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂，但是差距已经大大缩小，毕竟在此之前国产光刻机还是90nm。

据悉，上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商，从低端切入各个细分市场，现已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率也有40%，同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一。

上海微电子现有4大系列的光刻机产品，其中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造，采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆生产。

500系列面向IC后道先进封装，300系列面向LED、MEMS、功率器件制造，200系列面向TFT曝光。